氦質(zhì)譜真空檢漏設(shè)備

簡要描述：氦質(zhì)譜真空檢漏設(shè)備是采用質(zhì)譜學(xué)原理、以氦氣為示漏氣體的高精度無損檢漏設(shè)備，憑借氦氣大氣含量低、質(zhì)荷比特征鮮明的優(yōu)勢，實現(xiàn)超高靈敏度檢漏，可精準(zhǔn)定位并定量漏點。

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廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2026-03-09
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氦質(zhì)譜真空檢漏設(shè)備產(chǎn)品介紹：

氦質(zhì)譜真空檢漏設(shè)備是采用質(zhì)譜學(xué)原理、以氦氣為示漏氣體的高精度無損檢漏設(shè)備，憑借氦氣大氣含量低、質(zhì)荷比特征鮮明的優(yōu)勢，實現(xiàn)超高靈敏度檢漏，可精準(zhǔn)定位并定量漏點。設(shè)備支持真空噴氦、吸槍掃描、背壓累積等多種檢漏模式，適配真空 / 帶壓容器、密封組件、精密器件等不同檢測需求，廣泛應(yīng)用于航天航空、半導(dǎo)體、汽車、電子醫(yī)療等領(lǐng)域，是高級制造與精密工業(yè)中密封檢測的核心設(shè)備。

◎ 標(biāo)準(zhǔn)臺式機(jī)箱，外形美觀實用

◎ 檢測量程寬，橫跨10個量級

◎ 檢漏口耐壓高，大漏小漏都可檢

◎ 全液晶觸摸彩屏，操作方便

◎ 檢漏狀態(tài)一鍵清零

◎ 中英文菜單界面

◎ 檢測值可存儲

◎ 整機(jī)達(dá)到行業(yè)認(rèn)可水平

主要技術(shù)指標(biāo)：

1. 最小可檢漏率：3×10-13Pa·m3/s

2. 漏率顯示范圍：1×10-2—1×10-13Pa·m3/s

3. 啟動時間：≤2min